半導体業界は、生成AIなど急速に発展している先端ソフトウェア技術の革新的ともいえる進化によりめまぐるしく変化しています。NVIDIAの台頭に伴い圧倒的な地位を占めていたIntelの凋落など考えられなかったことが起きています。

各種センサー素子や高周波回路素子の用途が今まで以上に加速度的に広がりを見せており、従来のシリコン加工プロセス装置では対応が難しいとされる圧電薄膜や磁性薄膜といった新しい材料に対応できる微細加工装置が求められることとなりました。

当社は今後ますます需要が高まるであろうシリコン以外の素材に対して微細加工ができる新しい技術ニーズに応えるべく，酸素や各種の活性ガスが使用できる ECR（電子サイクロトロン共鳴）高密度プラズマ源およびECR大電流イオンビーム源の開発を進めています。

未来において、ますますテクノロジーは発展していくことでしょう。IT分野だけでなく世界がしのぎを削っている航空宇宙分野の発展においてもテクノロジーの発展は不可欠です。当社は微細加工の領域においてテクノロジーの発展に寄与するだけでなく豊かな社会作りを担っていきたいと考えています。

■事業課題
プラズマ・イオンビームに精通した開発人材が減少していて、大手半導体製造装置メーカーや電子部品メーカー生産技術部門から委託開発の問い合わせが増加しているが対応できていない。


■募集の背景
世界経済をけん引する半導体を製造するための半導体製造装置は、日本が世界の中で最先端の技術を有している業界です。特に前工程と呼ばれるエッチングや微細加工技術は世界をリードしています。当社の持つプラズマ・イオンビーム応用技術はその最先端技術を支えていますが、この技術に精通している人材の確保ができていません。

現在、日本が優位に立つ半導体製造装置業界の優位性を保つためにもこの技術を背負っていける人材の採用及び育成は喫緊の課題だと考えています。このままでは日本が有する最先端技術が遅れをとってしまうことになりかねません。当社はこの技術に興味のある方を積極的に採用し、育成していくことが使命だと考えています。技術的に未経験の方々に対し具体的な育成プランも考えていく必要があると考えています。

■お願いしたいこと
ECR（電子サイクロトロン共鳴）高密度プラズマ源およびECR大電流イオンビーム源の開発をお願いします。当社にお越しいただきながら一緒に開発に従事してください。

■想定している進め方
STEP１：まずは一度お話しさせていただき当社の開発に関する思いや将来ビジョンを共有させてください。
STEP２：その上で一緒に当社の開発に従事してください